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第156章 里程碑第一颗芯片（第1页）

组装完成后，赵学成让大家稍事歇息。然后他来到光刻机前，准备给大家简单介绍一下芯片的制作流程。

“各位，有了这台光刻机，我们就可以生产像芯片这样集成电路芯片了。”赵学成拍了拍光刻机，笑着说。

“芯片其实也是一个集成电路，只不过更加精密小型。”

“制作芯片需要先在一块硅晶片上蒸镀光敏材料，就像涂抹一层光敏胶水。”

“然后通过光刻机的精准曝光，在光敏材料上生成电路图案。”

“最后再通过一系列复杂工艺，就可以形成硅芯片了。”

赵学成一边简单解释，大家一边听得津津有味。

“原来芯片是这样制作的，太精妙了!”

“对对对，光刻机的作用就是在硅片上照射出精细电路图案，然后其他工艺再继续就能成芯片!”

“我终于明白芯片为什么那么小了，因为都是通过光刻生成的微细电路!”

大家纷纷感叹不已，对芯片制作工艺有了更深的理解。

“所以大家以后要充分利用这台光刻机，钻研精密芯片的制作工艺。”赵学成鼓励道。

“遵命所长!我们一定会努力研究，争取早日实现芯片批产!”众人重重点头，兴奋异常。

赵学成早已准备好了制作光刻机所需的各种材料。

他先从最关键的掩膜开始着手。

掩膜是光刻过程中需要的用来遮挡光线的图案，对划分电路结构至关重要。

制作一个好的掩膜需要精密的工艺，这也是光刻机研制的难点之一。

为了制作出高品质的掩膜，赵学成分别与几个科研院所取得了联系。

他们在掩膜制作方面积累了宝贵的经验。

经过多次反复实验改进，终于为光刻机研制成功制造出可用的掩膜。

在科学院那边，光刻机的研制进展他们也一直在密切关注。

得知赵学成需要制作掩膜，他们立刻组织力量全力支持。

科学院集结了多个部门的专家学者，不断针对掩膜的材料配方、制作工艺以及质量控制等方面提供建议，最终帮助赵学成成功突破了这项核心技术。

掩膜准备妥当之后，赵学成开始进行光刻图案的制作。

这需要仔细操作光刻机，精心控制图案曝光的每个细节。

“各位，我现在要开始光刻第一颗试验芯片了。”赵学成郑重其事地说。

他小心翼翼地将准备好的硅片放入光刻机，然后启动设备，一丝不苟地调试着参数。

这第一批光刻的芯片，是赵学成亲自设计的一款机床用处理器芯片。

它采用较前沿的一微米工艺制成，在当时可以说是非常先进的成果。

虽说与前世动辄几纳米制程的芯片相比，这一微米芯片的性能还有巨大的差距，但对于这个时代来说，能达到这样的工艺水平已属非常不错的成就。

在密切关注的科学院专家们看来，这一微米芯片的诞生，标志着我国集成电路制造进入国际先进行列，为后续发展奠定了坚实基础。

“稳定...调整左侧...好，开始曝光!”赵学成一丝不苟地操作着。

在接下来的几个小时里，他耐心地完成着图案曝光的工作，神情专注，丝毫不敢有丝毫马虎。

众人围在操作台前，紧张地等待着芯片的诞生。

赵学成专注地操控着光刻机，一丝不苟地完成着曝光工作。

“好，现在我们只需要等待结果了。”他轻轻呼出一口气，关掉设备的电源开关。

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